Ultrahøjt vakuum
Ultrahøjt vakuum (engelsk: Ultra-High Vacuum; UHV) er et vakuum-regime, hvor trykket er lavere end ~100 nPa (~10−7 Pa, ~10−9 mbar, ~10−9 torr). Det er derved muligt at opretholde en atomisk ren overflade.
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/8/87/STM_at_the_London_Centre_for_Nanotechnology.jpg/220px-STM_at_the_London_Centre_for_Nanotechnology.jpg)
Ultrahøjt vakuum er således en vigtig teknik inden for overfladevidenskab. Det er nødvendigt til teknikker såsom røntgenfotoelektronspektroskopi (XPS) og augerelektronspektroskopi, mens det fx kan være en fordel ved scanning-tunnelmikroskopi (STM) og atomar kraftmikroskopi (AFM).
![]() | Spire Denne artikel om fysik er en spire som bør udbygges. Du er velkommen til at hjælpe Wikipedia ved at udvide den. |